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低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋

簡要描述:低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋,臥式低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源, 可在機內(nèi)水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用。適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門,高等院校,企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-11
  • 訪  問  量:1039

詳細介紹

品牌其他品牌溫度穩(wěn)定性0.05℃
溫度范圍-5-100℃水浴槽容積10L
溫控功能制冷/加熱型價格區(qū)間面議
循環(huán)功能內(nèi)外循環(huán)儀器種類恒溫浴槽
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合

低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋技術(shù)參數(shù):

型號

溫度范圍(℃)

溫度波動度(℃)

工作槽容積(mm3)

工作槽開口(mm2)

槽深度(mm)

循環(huán)泵流量(L/min)

排水

CHDCW-0506

-5~100

0.02~0.05

250×200×150

180×160

150

6

CHDCW-0510

-5~100

0.02~0.05

250×200×200

180×160

200

6

CHDCW-1006

-10~100

0.02~0.05

250×200×150

180×160

150

6

CHDCW-1008

-10~100

0.02~0.05

280×250×140

235×180

140

6

CHDCW-1010

-10~100

0.02~0.05

250×200×200

180×160

200

6

CHDCW-1015

-10~100

0.02~0.05

280×250×220

235×180

220

6

CHDCW-2006

-20~100

0.02~0.05

250×200×150

180×160

150

6

CHDCW-2008

-20~100

0.02~0.05

280×250×140

235×180

140

6

CHDCW-2010

-20~100

0.02~0.05

250×200×200

180×160

200

6

CHDCW-2015

-20~100

0.02~0.05

280×250×220

235×180

200

6


低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋

低溫恒溫循環(huán)器的應用領域:

1.材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

2.物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。

3. 生化領域:旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。

4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

5.醫(yī)療領域:超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、降溫毯等。

6.對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。


主要用途:

1、對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學反應儀光源部分進行低溫冷卻。

2、對雙層玻璃反應釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制。

3、對分光光度計的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。

4、對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制。

5、對激光加工機的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。

6、對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制。

7、對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制。

8、對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。

9、對電泳儀、粘度計、醫(yī)用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制。

10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴散泵進行低溫冷卻和溫度控制。


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